光刻机对芯片制造商至关重要ASML新技术也在积极布局。据外媒报道，截至目前 2022 年度第一季度，ASML已出货136个EUV约7000万晶圆已被曝光。

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根据官方声明，新型号EUV光刻机系统 NXE:3600D可用性将达到93%，这将进一步接近它DUV光刻机(95%的可用性)。

数据显示，NXE:3600D每小时可生产160个晶圆 (wph)，速度为30mJ/cm，这比 NXE:3400C高18%。二是正在开发的 NXE:3800E系统最初将是30mJ/cm提供的速度大于195wph吞吐量升级后，产能达到220wph。

据介绍，NXE:3600E 渐进式光学改进将在像差、重叠和吞吐量方面进行，0.33 NA的EUV光刻机领域，ASML路线图包括2025年左右的吞吐量wph的NXE:4000F。

对于0.55 NA光刻机不仅需要更新其光刻机系统。同时，需要在光掩模、光刻胶层、图案转移工艺等方面齐头并进，使新设备的应用成为可能。

根据ASML 根据第一季度财务会议披露的数据，该公司的目标是在2022年发货55台EUV该系统计划在2025年实现(最多)90个工具。ASML同时也承认， 90台可能超过2025年的实际需求，但他们将其描述为满足2030年半导体行业1万亿美元需求所做的巨大努力。

按照之前的说法，ASML价值4亿美元(约26亿元人民币)的新型光刻机正在开发中，双层巴士大，重200多吨。原型机预计2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年至2030年主力出货。

这台机器应该指的是High-NA EXE:5200（0.55NA），Intel是世界上第一家下单的公司。High-NA即高值孔径，2nm之后的节点必须依靠它来实现。